EBPG Plus:高分辨率电子束光刻

Raith公司的EBPG Plus是一种超高性能电子束光刻系统。这个非常成功的、经过现场验证的系列已经达到了一个全新的发展水平。

重要的性能

视频资料:Raith GmbH

该系统具有低于5 nm的高分辨率光刻和100 kV的写入模式,因此覆盖了广泛的前沿应用领域,包括工业研发、直接写入纳米光刻和任何类型的纳米制造设施的批量生产。华体会双赢棋牌

新组合的保真度、稳定性、吞吐量和精度保证了所有性能参数之间的理想交互作用,以改善高分辨率光刻结果。

有4个3英寸晶圆片的支架是在10个支架气闸中使用的可能性之一。

有4个3英寸晶圆片的支架是在10个支架气闸中使用的可能性之一。图片来源:Raith

以下是EBPG Plus的功能

  • 安全的多用户环境和各种访问级别
  • 自动晶片和多样品曝光
  • 自动曝光参数切换和校准,使高通量和高分辨率之间的稳定和持久切换成为可能
  • 自带一个易于学习的图形用户界面和终端界面的脚本
  • 自动2或10持有人气闸可用
  • 快速和无误差的样品校准可以执行
  • 极快的阶段可与非常低的沉降时间
  • 最低线边粗糙度的复杂压裂模式
  • 在Firebird技术的帮助下,可以在最短的时间内进行高效的数据处理,达到最高的模式保真度

用户可以使EBPG Plus成为一种适应性极强的电子束光刻系统,是学术界和业界使用的理想选择。

塑造纳米制造的未来

EBPG Plus提供了模块化、自动化和性能的特殊组合。由于直观的用户界面加上自动化的工作流和可选的数据预处理软件,用户可以集中精力实现更好的结果,而不是系统处理。

EPBG Plus由各种支架组成,因此提供了不受任何限制的自动化样品或晶圆几何形状。此外,高分辨率光刻系统可以随时根据不同的需求进行现场升级。

进化技术

Raith是专业电子束光刻系统的市场领导者,因此,提供在纳米技术的前沿不断优化和增强的系统。因此,公司获得所需的经验,自信地满足工业客户的需求,确保正常运行时间和稳定性。EBPG Plus支持24/7批处理模式操作,以最少的操作员输入,持续实现高产量和产量。

特性

  • 具有直接写入性能,覆盖精度≤5 nm
  • 大面积书写稳定,拼接精度≤8nm
  • 射束电流范围可达350na

为特定的纳米光刻要求选择合适的系统

EBPG Plus光刻系统提供高分辨率和高吞吐量。为了满足每个客户不断变化的需求,系统有两个版本可用,两个版本都具有适应性。

EBPG5200 Plus配备了完整的200毫米书写能力,具有最终的稳定性。EBPG5150 Plus采用相同的通用底座平台,使用150mm级,适用于所有研发和复合半导体制造应用。华体会双赢棋牌

EBPG5200优先。

EBPG5200优先。图片来源:Raith

EBPG5150优先。

EBPG5150优先。图片来源:Raith

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光子CNOT量子门。

光子CNOT量子门。图片来源:美国耶鲁大学Menno Poot

覆盖精度远优于5 nm在区域板上显示。

覆盖精度远优于5 nm在区域板上显示。图片来源:CRXO/LBL,美国伯克利

嵌入向日葵型圆形光子晶体的微盘谐振器。

嵌入向日葵型圆形光子晶体的微盘谐振器。图片来源:美国耶鲁大学张旭峰

用30 nm间距的超高分辨率线(5 nm)测试图形。在整个晶圆上保持图形的同质性。

用30 nm间距的超高分辨率线(5 nm)测试图形。在整个晶圆上保持图形的同质性。图片来源:Raith

砷化镓T门器件。

砷化镓T门器件。图片来源:Raith

金刚石/二氧化硅纳米棒阵列。

金刚石/二氧化硅纳米棒阵列。图片来源:澳大利亚莫纳什大学的Sergey Gorelick

集成电路中的一对单光子节点。

集成电路中的一对单光子节点。图片来源:M. Petruzzella,荷兰埃因霍温理工大学

InSb纳米线上阴影生长的超导岛。

InSb纳米线上阴影生长的超导岛。图片来源:Sasa Gazibegovic,代尔夫特理工大学,荷兰

化合物半导体的应用程序

化合物半导体的应用程序。图片来源:Raith

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